10 nm im Zeitplan, aber ohne EUV-Lithografie?

ForschungDas Mooresche Gesetz, welches besagt, dass sich die Komplexität eines Chips (Transistoren) dank neuer Fertigungstechnologien stets alle zwei Jahre in etwa verdoppelt, wird in den nächsten Jahren weiter Bestand haben - auch wenn die Entwicklung von EUV-Lithografie sich weiter verzögert.

Bei der EUV-Lithografie werden die Strahlungsquellen mit weniger als einem Zwölftel der herkömmlichen Wellenlänge belichtet. Dadurch sind theoretisch deutlich kleinere Fertigungsverfahren möglich.

Ursprünglich sollte das neue Produktionsverfahren schon beim Intel 22 nm-Verfahren installiert werden, doch es verzögert sich immer weiter, auch wenn jetzt der Ausrüster für Halbleiterfabriken, ASML, berichtet, dass erste Feldtests bestanden worden wären, man demnächst erste Stückzahlen ausliefere und das Volumen bis 2014 auf 70 Wafer pro Stunde steigen soll. Eine serienreife Produktion für das Jahr 2015 scheint dennoch fragwürdig.

Das einzig Gute: Ob mit oder ohne EUV-Lithografie hält Intel an seinem Zeitplan fest, 2016 erste 10 nm-Prozessoren (Codename Skymont) vom Band laufen zu lassen. Zuvor wird man allerdings planmäßig 2014 auf 14 nm feine Strukturen wechseln (Codename Broadwell).
Der asiatische Auftragsfertiger TSMC wird zudem noch die Steps 20 und 16 nm mitnehmen. Eventuell sogar noch dieses Jahr.


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